正向光刻膠 Futurrex 近紅外光刻膠品牌
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商品介紹
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運(yùn)輸方式 貨運(yùn)及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補(bǔ)償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號 14128969
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




光刻膠市場

我國光刻膠市場規(guī)模2015年已達(dá)51.7億元,同比增長11%,高于國際市場增速,但全球占比仍不足15%,發(fā)展空間巨大。2015年我國光刻膠產(chǎn)量為9.75萬噸,而需求量為10.12萬噸,依照需求量及產(chǎn)量增速預(yù)計(jì),未來仍將保持供不應(yīng)求的局面。據(jù)智研咨詢估計(jì),得益于我國平面顯示和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,我國光刻膠市場需求,在2022年可能突破27.2萬噸。在光刻膠生產(chǎn)種類上,我國光刻膠廠商主要生產(chǎn)PCB光刻膠,而LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模較小,相關(guān)光刻膠主要依賴進(jìn)口。放眼國際市場,光刻膠也主要被美國Futurrex 的光刻膠、日本合成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、住友化學(xué)、美國杜邦、德國巴斯夫等化工寡頭壟斷。


NR9-3000PY光刻膠

光刻膠底膜處理:清洗:清潔干燥,使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干:去除襯底表面的水汽,使其徹底干燥,增粘處理(涂底) 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物,HMDS,光刻膠疏水,Sio2 空氣中,Si-OH, 表面有,親水性,使用HMDS H2C6Si2NH 涂覆,熏蒸  SI –OH結(jié)合形成Si-O-Si(CH2)2,與光刻膠相親。


光刻膠

光刻膠組分及功能

光引發(fā)劑

光引發(fā)劑吸收光能(輻射能)后經(jīng)激發(fā)生成活性中間體,并進(jìn)一步引發(fā)聚合反應(yīng)或其他化學(xué)反應(yīng),是光刻膠的關(guān)鍵組分,對光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用。

樹脂

光刻膠的基本骨架,是其中占比較大的組分,主要決定曝光后光刻膠的基本性能,包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前后對溶劑溶解度的變化程度、光學(xué)性能、耐老化性、耐蝕刻性、熱穩(wěn)定性等。

溶劑

溶解各組分,是后續(xù)聚合反應(yīng)的介質(zhì),另外可調(diào)節(jié)成膜。

單體

含有可聚合官能團(tuán)的小分子,也稱之為活性稀釋劑,一般參加光固化反應(yīng),可降低光固化體系粘度并調(diào)節(jié)光固化材料的各種性能。










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