MULTI-LESION BRAIN QA PHANTOM
MODEL 037

多病灶腦QA模型

型號(hào)037

腦等效體模多病灶SRS治療計(jì)劃QA

我們的多病灶腦QA模型（037型）為具有多個(gè)目標(biāo)的單等中心計(jì)劃提供了一種快速、全面的膠片劑量學(xué)質(zhì)量保證的獨(dú)特解決方案。該模型可用于多病灶治療方法的徹底驗(yàn)證。

我們的PHANTOM呈矩形，圓角，以最小化CT偽影，體積足夠大，以覆蓋大腦解剖變化。模擬腦組織的線(xiàn)性衰減在50～15mev的真實(shí)組織的1%以?xún)?nèi)。

037型有兩對(duì)不對(duì)稱(chēng)嵌入基準(zhǔn)標(biāo)記和中心基準(zhǔn)分為半在幻象等中心，以幫助您在輻照前成像。您還可以對(duì)齊圖像基準(zhǔn)（來(lái)自CBCT、ExacTrac?, 或者kV圖像），并將它們與PHANTOM的參考圖像進(jìn)行比較，以便使模型與直線(xiàn)加速器支架頂部的位移更精確。

PHANTOM以5mm增量接收多達(dá)29個(gè)位置的放射性鉻片。預(yù)加載聚酯薄膜片在薄膜放置時(shí)具有靈活性，而不影響敏感幾何。在PHANTOM側(cè)的外部凹槽和標(biāo)記有助于在只需要的位置輕松定位薄膜，以覆蓋特定的病變。電影允許單獨(dú)審查多個(gè)計(jì)劃目標(biāo)卷（PTV）。

四個(gè)裝配桿，每個(gè)由不同的材料制成，允許定位和登記到精確RAC? 系統(tǒng)。

CIRS提供預(yù)切割EBT3薄膜，專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)適合037型。

特征：

接收最多29個(gè)GaFCromic薄膜

允許對(duì)單次交付的多個(gè)目標(biāo)進(jìn)行劑量測(cè)量

可重復(fù)設(shè)置的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，精度為亞毫米

預(yù)加載聚酯板在薄膜數(shù)量和位置上具有靈活性

治療計(jì)劃驗(yàn)證劑量分配的準(zhǔn)確膠片登記標(biāo)記

*ExacTrac ? 是Brainlab（慕尼黑，DE）的注冊(cè)商標(biāo)